Минский НИИ радиоматериалов Национальной академии наук Беларуси предлагает потребителям фотошаблоны для фотолитографического оборудования на основе производственного соглашения и ищет партнеров для заключения соглашения о дистрибьюторских услугах.

Фотошаблоны применяются для оптической или контактной фотолитографии при производстве микросхем, схем функциональной электроники, тонкоплёночных, микрополосковых и СВЧ плат.

Минский НИИ радиоматериалов Национальной академии наук Беларуси изготавливает прецизионные фотошаблоны на подложках из стекла К8 и кварца, предназначенные для проекционной фотолитографии при производстве интегральных схем, тонкоплёночных, микрополосковых и СВЧ плат, полупроводниковых приборов различного назначения и др.

При изготовлении прецизионных фотошаблонов используются фоторезисты, область максимальной чувствительности которых находится в области ближнего УФ-излучения. Рисунок формируется сфокусированным лазерным излучением с длиной волны 355 нм.

Прецизионные фотошаблоны изготавливаются на современном оборудовании (генераторе изображений лазерном многоканальном ЭМ-5189-02), обладают высокой точностью неометрических размеров элементов рисунка и шага между фрагментами, стабильностью рисунка и его размеров с течением времени, высокой контрастностью изображения.

Краткие технические характеристики генератора изображений и фотошаблонов представлены на сайте НИИ радиоматериалов здесь.

Фотошаблоны характеризуются:
* высокой разрешающей способностью;
* большим числом идентичных изображений;
* большой оптической плотностью непрозрачных участков;
* высоким качеством поверхности рисунка;
* однородностью рисунка;
* стойкостью к истиранию;
* плоскостностью рабочей стороны.

Типы изготавливаемых фотошаблонов:
* с железноокисным маскирующим покрытием;
* с хромовым маскирующим покрытием.

Технические характеристики:

минимальный размер элемента	0,6 мкм
толщина	от 2,2 до 6,4 мм
габаритные размеры заготовок	127(5˝),152(6˝) и 178мм (7˝)
неровность края элемента	не более 0,3 мкм
скругление угла элемента	не более 0,5 мкм
погрешность стыковки полос	не более ±40 нм
погрешность совмещения	не более ±70 нм

Области применения: оптика, оптоэлектроника, лазерная техника и микроэлектроника.

Информация также размещена в  "Каталоге инновационных разработок организаций НАН Беларуси для замещения критического импорта (2022), стр.10-11.

Фильм о технологиях НИИ радиоматериалов можно посмотреть здесь.

Фотошаблоны для фотолитографии от Минского НИИ радиоматериалов (НИИРМ) представляют собой прецизионные маски на стекле К8 или кварце, производимые с использованием лазерного генератора ЭМ-5189-02 для микроэлектроники и СВЧ-плат. Они предназначены для замены импортных аналогов из России, Китая, США и Великобритании.

Преимущества фотошаблонов НИИРМ.
- Высокая точность геометрических размеров элементов и шага фрагментов, стабильность рисунка во времени, высокая контрастность изображения.
- ​Характеристики включают высокую разрешающую способность (до 0,6 мкм элементов), большое число идентичных изображений, большую оптическую плотность непрозрачных участков, однородность и плоскостность.

Это обеспечивает импортозамещение и подходит для проекционной фотолитографии в оптике, оптоэлектронике и микроэлектронике.

Аналоги

Зеленоградский нанотехнологический центр	Россия	Прецизионные фотошаблоны для микроэлектроники
НПК "Феррит-Квантар"	Россия	Маски для фотолитографии
НПК "Авангард"	Россия	Аналогичные прецизионные шаблоны
НПП "Радары ММС"	Россия	Фотошаблоны для СВЧ
Xiamen Powerway Advanced Material	Китай	Импортные маски на кварце
Photronics, Inc.	США	Глобальный лидер в photomasks
Compugraphics International	Великобритания	Высокоточные маски для EUV/UV

Специализация института включает следующие основные направления:
* разработка и производство элементной базы и функциональных узлов СВЧ-техники (твердотельные СВЧ монолитно-интегральные схемы - малошумящие усилители и усилители мощности, защитные устройства, переключатели, аттенюаторы, преобразователи частоты; СВЧ-модули и др.);
* разработка и производство оптоэлектронных компонентов и модулей на их основе (фотодетекторы, светоизлучающие диоды, полупроводниковые лазеры, приемные и передающие оптические модули);
* производство материалов для полупроводникового производства - подложки арсенида галлия стандарта «epi-ready»;
* разработка сенсорной техники, модулей и систем (датчики угла наклона, давления, ускорения, электронный компас и др.);
* разработка и изготовление медицинской техники.

Научно-производственная база института включает в себя специальное технологическое и научно-исследовательское оборудование, предназначенное для разработки и выполнения полного цикла технологических операций изготовления СВЧ, оптоэлектронных компонентов, датчиков физических величин на основе микроэлектромеханических систем, оборудование для изготовления продукции медицинского назначения - датчиков «Глюкосен» и др. В частности оборудование позволяет выполнять операции резки полупроводниковых слитков соединений А3В5 (GaAs, InP, GaN и др.), шлифовки и полировки пластин, эпитаксиального наращивания, операции термодиффузии и имплантации легирующих примесей, операции корпусирования микросхем, контроля их параметров и т.д.

Институт имеет лицензионное программное обеспечение для электродинамических расчетов, собственную библиотеку стандартных элементов, методики контроля и испытаний СВЧ компонентов С, S, L, X, K диапазонов длин волн, оборудование электронной литографии с разрешением 100 нм, обеспечивающее современный уровень проектных норм.

В рамках специализации ведется разработка технологий, элементной базы и на ее основе приборов для различных радиоэлектронных систем: систем радиолокации, волоконно-оптических линий связи, лазерных дальномеров, систем горизонтирования и ориентации объектов, систем управления, наведения и навигации, и т.д.

Потребители, заинтересованные в приобретении фотошаблонов для фотолитографии на основе производственного соглашения.

Партнеры, заинтересованные в приобретении фотошаблонов для фотолитографии на основе соглашения о дистрибьюторских услугах.